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双层金属布线2μmCMOS万门门阵列(LC4750)工艺研究
作者姓名:郭玉璞
作者单位:电子工业部东北微电子研究所!沈阳110032
摘    要:介绍了双层金属布线2μm硅栅CMOS万门门阵列(LC4750)的研制过程、工艺设计和工艺控制,讨论了关键工艺的各种方法、条件及试验结果,并对新工艺线的工艺能力做了认真分析。

关 键 词:集成电路 CMOS 门阵列 布线
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