| 紫铜表面掺钨类金刚石膜的制备及耐蚀性与细胞相容性研究 |
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| 引用本文： | 徐丽萍,林松盛.紫铜表面掺钨类金刚石膜的制备及耐蚀性与细胞相容性研究[J].电镀与涂饰,2019(13):663-667. |
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| 作者姓名： | 徐丽萍 林松盛 |
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| 作者单位： | 广东省新材料研究所,现代材料表面工程技术国家工程实验室,广东省现代表面工程技术重点实验室,广东 广州 510651;广东省新材料研究所,现代材料表面工程技术国家工程实验室,广东省现代表面工程技术重点实验室,广东 广州 510651 |
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| 基金项目： | 广东省科技计划;广东省科技计划;广东省科技计划;广东省科学院实施创新驱动发展能力建设专项资金项目 |
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| 摘 要： | 采用阳极层流型矩形气体离子源与非平衡磁控溅射的复合技术在紫铜基体制备了掺钨类金刚石(W-DLC)薄膜。对膜层的微观形貌、相组成及显微硬度进行了表征,测试了紫铜和W-DLC膜在生理盐水(0.9%NaCl溶液)中的动电位极化曲线以分析其耐腐蚀性能,并评价了它们的细胞相容性。W-DLC膜层表面致密均匀、其中存在WC和W2C相,显微硬度为2557HV,能显著提高紫铜基体在生理盐水中的耐蚀性,并明显降低了紫铜对细胞增长的抑制作用。
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| 关 键 词： | 紫铜 类金刚石膜 钨 掺杂 磁控溅射 耐蚀性 细胞相容性 |
Preparation of tungsten-doped diamond-like carbon film on red copper and study on its corrosion resistance and cytocompatibility |
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| XU Li-ping,LIN Song-sheng.Preparation of tungsten-doped diamond-like carbon film on red copper and study on its corrosion resistance and cytocompatibility[J].Electroplating & Finishing,2019(13):663-667. |
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| Authors: | XU Li-ping LIN Song-sheng |
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| Affiliation: | (Guangdong Institute of New Materials Science, National Engineering Laboratory for ModernMaterials Surface Engineering Technology, Key Lab of Guangdong for Modern Surface Engineering Technology,Guangzhou 510651, China) |
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| Abstract: | XU Li-ping;LIN Song-sheng(Guangdong Institute of New Materials Science, National Engineering Laboratory for ModernMaterials Surface Engineering Technology, Key Lab of Guangdong for Modern Surface Engineering Technology,Guangzhou 510651, China) |
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| Keywords: | red copper diamond-like carbon film magnetron sputtering tungsten doping corrosion resistance cytocompatibility |
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