| 纳米硅镶嵌复合薄膜退火前后的微结构及发光特性研究 |
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| 引用本文： | 肖瑛,刘涌,韩高荣.纳米硅镶嵌复合薄膜退火前后的微结构及发光特性研究[J].真空科学与技术学报,2004,24(Z1):71-75. |
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| 作者姓名： | 肖瑛 刘涌 韩高荣 |
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| 作者单位： | 肖瑛（浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室,杭州,310027）
刘涌（浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室,杭州,310027）
韩高荣（浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室,杭州,310027） |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，教育部跨世纪优秀人才培养计划 |
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| 摘 要： | 采用减压化学气相沉积方法,依靠纯N2稀释的SiH4气体的热分解反应,在玻璃表面生长了纳米硅镶嵌的复合薄膜.实验研究了退火前后薄膜样品的结晶状态和光致发光特性.结果表明,未退火样品的光致发光特性随沉积温度升高反而减弱.退火温度Ta＞600℃时,晶化趋势明显,Ta＜600℃时,退火温度对晶化的贡献不大,但提高退火温度或延长退火时间可以增加PL强度.同时在退火样品中发现Si-Ox的单晶结构.通过Raman、PL、TEM的分析比较,认为在退火前后分别有两种不同的发光机制起主导作用.
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| 关 键 词： | 纳米硅 化学气相沉积 退火 光致发光 |
| 文章编号： | 1672-7126(2004)增-071-05 |
Influence of Annealing on Microstructures and Photoluminescence of Nano-Composite Silicon Film |
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