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| 193nm浸没式光刻技术发展现状及今后难点 | |
| 引用本文： | 《电子工业专用设备》编辑部.193nm浸没式光刻技术发展现状及今后难点[J].电子工业专用设备,2006,35(4):1-2. |
| 作者姓名： | 《电子工业专用设备》编辑部 |
| 摘 要： | 2002年之后,浸没式技术迅速成为光刻技术中的新宠.因为此种技术的原理清晰及配合现有的光刻技术变动不大,获得了人们的极大赞赏. |
| 关 键 词： | 技术发展现状 光刻技术 浸没式 |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ | |
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