| Zn0.85Co0.15O薄膜的制备及其结构分析 |
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| 引用本文： | 李爱侠,苏凤莲,周圣明,刘艳美,赵宗彦. Zn0.85Co0.15O薄膜的制备及其结构分析[J]. 真空科学与技术学报, 2003, 23(5): 353-355 |
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| 作者姓名： | 李爱侠 苏凤莲 周圣明 刘艳美 赵宗彦 |
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| 作者单位： | 安徽大学物理系,安徽合肥,230039 |
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| 基金项目： | 安徽省自然科学基金(No.00047208) |
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| 摘 要： | 用电子束蒸镀方法在(100)单晶Si衬底上,生长Zn0.85Co0.15O薄膜,并研究了衬底温度对薄膜质量的影响,结果表明当衬底温度为400℃时,外延膜取向性最好,且其(002)衍射峰半高宽最窄(为0.4834°)。
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| 关 键 词： | 电子束反应蒸镀 Zn0.85Co0.15O薄膜 衬底温度 微结构 |
| 文章编号： | 0253-9748(2003)05-0353-03 |
| 修稿时间： | 2003-03-02 |
Growth and Microstructures of Zn0.85Co0.15O Films |
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| Li Aixia,Su Fenglian,Zhou Shengming,Liu Yanmei and Zhao Zongyan. Growth and Microstructures of Zn0.85Co0.15O Films[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2003, 23(5): 353-355 |
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| Authors: | Li Aixia Su Fenglian Zhou Shengming Liu Yanmei Zhao Zongyan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | E-beam evaporation Zn0.85Co0.15O film Substrate temperature Microstructure |
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