Si—C—O—N系统相稳定性和相稳定性图 |
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作者姓名: | 凌志达 |
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摘 要: | 对Si-C-O-N系统进行了平衡状态下的相稳定性计算,绘制了在1473K和1573K下的Si3N4、SiC、Si2N2O和SiO2相稳定性与N2分压的O2分压的关系图以及N2分压和SiO分压的关系图,Si3N4/Si2N2O/SiC、SiO2/Si2N2O/SiC两个三固相平衡点与N2分压、O2分压和SiO分压以及温度的函数关系图,并以此确定C纤维-SiC纤维转变和C纤维上涂层SiC过程中,为获得稳定SiC相的气体分压。
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关 键 词: | Si-C-O-N系统 相稳定性 气体分压 相稳定性图 陶瓷 |
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