|
|||||
|
|
| 等离子体技术在化学气相沉积陶瓷薄膜中的应用 | |
| 作者姓名： | 黄炳堂 |
| 作者单位： | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 摘 要： | <正> 现今人们已知道,陶瓷材料除了具有耐高温和化学性质稳定的特点外,在电、热、光、磁、声等方面也具有优异的性能,发展了许多功能陶瓷材料。随着微电子学、集成光学、光通信、太阳能利用等领域的大力开拓,材料的薄膜化受到极大重视,这就促使各种金属、非金属薄膜沉积技术迅速发展。其中等离子反应薄膜沉积术,是在许多原来已成熟的薄膜沉积技术中,应用了等离子体技术而发展起来的;因而方法种类最多、应用最广,发展也最快。一、等离子反应薄膜沉积术的分类参与“等离子反应”的薄膜沉积技术,大致可以分为溅射、离子镀、等离子化学气相沉积、等离子表面改性及聚合等几类,而每一类又可分为若干种方法,如表1所示。二、等离子化学气相沉积基本原理及特征在室温或较低温度(一般<500℃),从外 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |