|
|||||
|
|
| 新型半导体制造设备集锦 | |
| 作者单位： | 电子工业部第四十五研究所 |
| 摘 要： | ＤＷＬ—４００直写光刻系统由德国ＨｅｉｄｅｌｂｅｒｙＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓＭｉｋｒｏｔｅ－ｃｈｎｉｋＧｍｂＨ公司生产的ＤＷＬ—４００型高精度激光直写光刻系统，专用于高分辨掩模的制作和直写应用。该系统作图面积可达４００ｍｍ×４００ｍｍ，且具有亚微米结构... |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||
|
||||||||||||
|
||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |