| SiC／TiAl界面固相反应研究 |
| |
| 引用本文： | 汤志鸣,汤文明,曹菊芳,赵学法,吴玉程,郑治祥. SiC／TiAl界面固相反应研究[J]. 材料热处理学报, 2008, 29(3) |
| |
| 作者姓名： | 汤志鸣 汤文明 曹菊芳 赵学法 吴玉程 郑治祥 |
| |
| 作者单位： | 合肥工业大学材料科学与工程学院,安徽合肥,230009 |
| |
| 摘 要： | 使用扫描电子显微镜、电子能谱仪、X射线衍射仪对经950～1100℃热处理的SiC/TiAl平面界面偶界面固相反应层的成分分布、微结构及相组成等进行了分析研究,讨论了SiC/TiAl界面固相反应机制,并对热处理过程中反应层成长的动力学过程进行了探讨,获得相应的动力学方程.结果表明,SiC/TiAl界面固相反应层主要由TiC、Ti5Si3Cx及Ti(Al,Si)2构成.其中,TiC和Ti5Si3Cx主要富集于邻近SiC的反应区,而Ti(Al,Si)2富集于邻近TiAl侧的反应区.SiC/TiAl界面固相反应的发生归因于TiC和Ti5Si3Cx数值大的负吉布斯自由能变化.SiC/TiAl界面固相反应层遵循抛物线生长规律,为扩散控制的反应过程,反应速率常数为:K=8.47×10-3exp(-322×103/RT)(m2/s).
|
| 关 键 词： | SiC TiAl 界面固相反应 固相扩散 反应机制 |
Interfacial solid state reaction between SiC and TiAl |
| |
| TANG Zhi-ming,TANG Wen-ming,CAO Ju-fang,ZHAO Xue-fa,WU Yu-cheng,ZHENG Zhi-xiang. Interfacial solid state reaction between SiC and TiAl[J]. Transactions of Materials and Heat Treatment, 2008, 29(3) |
| |
| Authors: | TANG Zhi-ming TANG Wen-ming CAO Ju-fang ZHAO Xue-fa WU Yu-cheng ZHENG Zhi-xiang |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
