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| 电弧源喷射微粒及膜沉积率与弧电流关系 | |
| 引用本文： | 张世良,陈鹏,洪惠荫,胡永年,任妮,孙玉珠,翟晓明.电弧源喷射微粒及膜沉积率与弧电流关系[J].真空科学与技术学报,1989(6). |
| 作者姓名： | 张世良 陈鹏 洪惠荫 胡永年 任妮 孙玉珠 翟晓明 |
| 作者单位： | 兰州物理研究所 (张世良，陈鹏，洪惠荫，胡永年，任妮，孙玉珠)，兰州物理研究所(翟晓明) |
| 摘 要： | 利用冷阴极电弧源镀膜时,源喷射微粒其直径从亚微米至十几微米,随弧流增加,微粒密度、膜沉积率及大直径微粒均上升。本文给出了上述试验结果及按直径分布微粒密度图。给出了阴极工作表面平均温度计算公式,计算了灼坑(CRATER)半径与弧流关系,为合理选择源工作参数,进行源设计提供了依据。 |
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