纯二氧化钒薄膜制备工艺参数试验优化研究

针对传统方法制备VO_2膜成分伴随多种其他钒氧化物生成的问题,设计正交试验采用VO_2靶在蓝宝石基底上通过射频磁控溅射的方法制备VO_2薄膜,并对其进行退火热处理。对XRD检测结果进行分析,工艺参数下所制备的薄膜均在以2θ=28.9°为中心出现较明显的衍射峰,并在2θ=44.3°出现微弱衍射峰,分别对应VO_2的(011)、(021)两个面,并且只有这两个衍射峰。发现其制备薄膜纯度高,避免了传统制备方法多种钒氧化物的生成。检测了2~25μm波段范围内高低温(15、80℃)透过率。在选定波段,常温透过率可达60%以上,高温相变后透过率低于10%,透过率变化幅度高于50%。在最优工艺参数下制备的薄膜具有更好的激光防护性能。