| 锗薄膜在低温下的折射率研究（英文） |
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| 引用本文： | 徐嶺茂,周晖,张凯锋,郑军,李坤,王济洲,王多书.锗薄膜在低温下的折射率研究（英文）[J].红外与毫米波学报,2018(1). |
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| 作者姓名： | 徐嶺茂 周晖 张凯锋 郑军 李坤 王济洲 王多书 |
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| 作者单位： | 兰州空间技术物理研究所真空技术与物理国防科技重点实验室;无锡泓瑞航天科技有限公司; |
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| 摘 要： | 利用电子束蒸发方法在双面抛光的ZnSe基底上镀制单层Ge薄膜.在80 K~300 K温度范围内,采用PerkinElmer Frontier傅里叶变换红外光谱仪低温测试系统每20 K测量Ge单层在2~15μm波长范围的透射率.采用全光谱反演拟合方法得到Ge单层在不同温度下的折射率.结果显示,Ge单层折射率均随波长增大而减小,且变化趋势基本相同.利用Cauchy色散公式对折射率波长色散关系进行拟合,得到Ge薄膜材料折射率温度/波长色散表达式为:n(λ,T)=3.29669+0.00015T+5.96834×10~(-6)T~2+0.416 98/λ~2+0.173 84/λ~4.最后,验证了Ge单层膜折射率温度/波长色散公式的准确性.
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