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| 单晶硅基表面碳纳米管薄膜的制备研究 | |
| 作者姓名： | 彭宜斌 程国安 刘华平 郑瑞廷 刘长虹 |
| 作者单位： | 1. 北京师范大学材料科学与工程系,北京,100875 2. 南昌大学材料科学工程系,南昌,330047 |
| 摘 要： | 以乙炔气为反应气体 ,采用催化裂解方法 ,在沉积有铁催化剂膜的单晶硅基体上研究碳纳米管薄膜的制备。研究表明 ,由于催化剂的作用 ,在硅基体上能够形成直径为 5 0～ 10 0nm的碳纳米管 ;铁催化剂膜的粒径大小和分散状态对碳钠米管薄膜的厚度、管径和均匀性起着关键作用 ;氢氟酸水溶液处理的催化剂膜有利于铁催化剂颗粒的分散和均匀化 ,能形成比较好的碳纳米管薄膜。由电镜分析发现 ,在单晶硅基体上生长的碳纳米管为顶端生长模式 |
| 关 键 词： | 碳纳米管 催化裂解法 单晶硅 |
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