| Ge/Si多层膜热稳定性的Raman光谱研究 |
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| 引用本文： | 周湘萍,毛旭,张树波,杨宇. Ge/Si多层膜热稳定性的Raman光谱研究[J]. 功能材料, 2001, 32(4): 429-430,433 |
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| 作者姓名： | 周湘萍 毛旭 张树波 杨宇 |
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| 作者单位： | 云南大学材料科学与工程系, |
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| 摘 要： | 用Raman光散射的方法，观察了磁控溅射技术制备的Ge/Si系列多层膜退火处理后的各Raman峰的变化，对其峰形、峰位及峰强的变化进行讨论分析。实验结果显示：Ge/Si多层膜经700℃热处理10min后，能改善各层的晶体质量，得到较完整的多层膜的结构。
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| 关 键 词： | Raman光谱 退火 热稳定性 锗 硅多层膜 |
| 文章编号： | 1001-9731(2001)04-0429-02 |
Raman study on the thermal stability of Ge/Si multilayers |
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| ZHOU Xiang ping,MAO Xu,ZHANG Shu bo,YANG Yu. Raman study on the thermal stability of Ge/Si multilayers[J]. Journal of Functional Materials, 2001, 32(4): 429-430,433 |
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| Authors: | ZHOU Xiang ping MAO Xu ZHANG Shu bo YANG Yu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Raman spectra Ge/Si multilayer films annealing |
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