| 电子束光刻制备5000line/mm光栅掩模关键技术研究 |
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| 引用本文： | 朱效立,谢常青,赵珉,陈宝钦,叶甜春,牛洁斌,张庆钊,刘明.电子束光刻制备5000line/mm光栅掩模关键技术研究[J].微细加工技术,2008(4). |
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| 作者姓名： | 朱效立 谢常青 赵珉 陈宝钦 叶甜春 牛洁斌 张庆钊 刘明 |
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| 作者单位： | 中国科学院微电子研究所,纳米加工与新器件集成技术实验室,北京,100029 |
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| 基金项目： | 国家基础科学重大研究计划，国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 为了制备高线密度X射线透射光栅掩模,分析了电子束光刻中场拼接对高线密度光栅图形的影响;利用几何校正技术和低灵敏度的950 k的PMMA电子束抗蚀剂,克服了电子束的邻近效应对厚胶图形曝光的影响.采用电子束光刻和微电镀的方法制备了5 000line/mm x射线透射光栅的掩模,并将栅线宽度精确控制在100 nm～110 nm,为X射线光刻复制高线密度X射线透射光栅创造了有利条件.
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| 关 键 词： | 电子束光刻 X射线透射光栅 邻近效应校正 X射线光刻 |
Key Technology for Fabrication of 5000line/mm Gratings Mask by Using E-beam Lithography |
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| ZHU Xiao-li,XIE Chang-qing,ZHAO Min,CHEN Bno-qin,YE Tian-chun,NIU Jie-bin,ZHANG Qing-zhao,LIU Ming.Key Technology for Fabrication of 5000line/mm Gratings Mask by Using E-beam Lithography[J].Microfabrication Technology,2008(4). |
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| Authors: | ZHU Xiao-li XIE Chang-qing ZHAO Min CHEN Bno-qin YE Tian-chun NIU Jie-bin ZHANG Qing-zhao LIU Ming |
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| Affiliation: | ZHU Xiao-li,XIE Chang-qing,ZHAO Min,CHEN Bao-qin,YE Tian-chun,NIU Jiebin,ZHANG Qing-zhao,LIU Ming(Key Lab of Nano-fabrication , Novel Devices Integrated Technology,Instituteof Microelectronics,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100029,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | E-beam lithography X-ray transmission gratings proximity effect correction X-ray lithography |
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