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| 化学气相沉积（CVD）生长钻石薄膜的激光诊断 | |
| 作者姓名： | 莎燕 罗山 |
| 作者单位： | 莎燕: 罗山: |
| 摘 要： | 众所周知，钻石具有许多令人兴奋的性质。它是迄今所知最硬的材料，具有极高的热导率，宽阔的光学透明度，其强度也是其他物质无法匹敌的。然而，天然钻石的稀少和高成本阻碍了它在某些潜在领域的应用，这本来可从其独特的性质获益的。近二十年来，低压环境下钻石的化学气相沉积（CVD）技术已开发出，采用这一技术可在各种材料镀上厚薄不同的钻石膜，或产生独立的钻石膜和片。现在已可得到用CVD法生长的高光学透明．度的钻石片，其直径超过迄今发现的最大天然钻石。采用这一技术已开发出钻石镀膜机具及半导体钻石电子线路。最近的估算表… |
| 关 键 词： | CVD 钻石薄膜 化学气相沉积 激光诊断 生长 |
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