| 氯化物体系三价铬电镀工艺研究 |
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| 引用本文： | 毛祖国,管勇,丁运虎,何杰.氯化物体系三价铬电镀工艺研究[J].制造技术与机床,2008(4):87-91. |
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| 作者姓名： | 毛祖国 管勇 丁运虎 何杰 |
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| 作者单位： | 武汉材料保护研究所,湖北,武汉,430030 |
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| 摘 要： | 开发了一种氯化物体系三价铬电镀工艺。讨论了Cr（Ⅲ）、配位剂、导电盐、硼酸、润湿剂、去极化剂、pH和温度等工艺参数的影响。通过Hull cell试验和小槽挂镀试验，制备了氯化物体系三价铬电镀用石墨阳极。并确定了全套工艺规范。测定了镀液及镀层的性能，结果表明，该体系具有良好的稳定性。在10-20A／dm^2光亮电镀范围内，分散能力为70％-84％，覆盖能力为100％，所得镀层颜色白亮。耐蚀性优良，综合性能与国外同类产品相当。
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| 关 键 词： | 电镀铬 三价铬 氯化物体系 氯化物体系 三价铬电镀 工艺研究 System Chloride Process Electroplating Chromium 产品 国外 综合 耐蚀性 镀层颜色 覆盖能力 分散能力 范围 光亮电镀 稳定性 结果 性能 |
| 修稿时间： | 2007年12月26 |
Study on Trivalent Chromium Electroplating Process in Chloride System |
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| MAO Zuguo,GUAN Yong,DING Yunhu,HE Jie.Study on Trivalent Chromium Electroplating Process in Chloride System[J].Manufacturing Technology & Machine Tool,2008(4):87-91. |
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| Authors: | MAO Zuguo GUAN Yong DING Yunhu HE Jie |
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