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| 无掩模表面等离子激元干涉光刻 | |
| 作者姓名： | 杜惊雷 郭小伟 郭永康 罗先刚 杜春雷 |
| 作者单位： | 四川大学,物理科学与技术学院,纳光子技术研究所,成都,610064;中国科学院光电技术研究所,微细加工光学技术重点实验室,成都,610209 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金 , 国家重点基础研究发展计划(973计划) , 高等学校博士学科点专项科研项目 |
| 摘 要： | 采用表面等离子激元近场增强技术可改善纳米干涉光刻成像质量,有效实现微纳米结构快速、高效、低成本制作,在传统微细加工技术较难发挥作用的一些纳米光子器件加工领域有很好应用前景. |
| 关 键 词： | 表面等离子激元 干涉光刻 纳米光子器件 |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ | |