| 快速热退火对原子层淀积铂纳米颗粒的影响 |
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| 引用本文： | 陈红兵,朱宝,陈笋,孙清清,丁士进,张卫.快速热退火对原子层淀积铂纳米颗粒的影响[J].材料研究学报,2012(3):255-260. |
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| 作者姓名： | 陈红兵 朱宝 陈笋 孙清清 丁士进 张卫 |
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| 作者单位： | 专用集成电路与系统国家重点实验室复旦大学微电子研究院 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金61076076,02;国家科技重大专项2009ZX02302-002;新世纪优秀人才支持计划NCET-08-0127资助项目~~ |
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| 摘 要： | 以（MeCp）Pt（CH3）3和O2为反应源,采用原子层淀积（ALD）技术在A12O3衬底上制备Pt纳米颗粒,研究了在氮气中快速热退火对Pt纳米颗粒的特性的影响。结果表明,随着退火温度从700℃升高到900℃,Pt纳米颗粒尺寸逐渐增大,颗粒之间分离愈加清晰,形貌趋向球形,但颗粒密度稍有降低。随着在800℃退火时间从15 s增加到60 s,Pt纳米颗粒的尺寸逐渐增大,尺寸分布变得更加弥散,颗粒的密度逐渐降低;其中退火15 s后的Pt纳米颗粒密度高（9.29×10★cm-2）、分布均匀、分离清晰。900℃退火后在Pt纳米颗粒中出现部分氧化态的Pt原子,其原因可能是在高温下Pt纳米颗粒与A12O3薄膜之间发生了界面化学反应。
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| 关 键 词： | 金属材料 Pt纳米颗粒 原子层淀积 快速热退火 |
Effects of Rapid Thermal Annealing on Atomic-layer-deposition Pt Nanoparticles |
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| CHEN Hongbing,ZHU Bao,CHEN Sun,SUN Qingqing,DING Shijin,ZHANG Wei.Effects of Rapid Thermal Annealing on Atomic-layer-deposition Pt Nanoparticles[J].Chinese Journal of Materials Research,2012(3):255-260. |
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| Authors: | CHEN Hongbing ZHU Bao CHEN Sun SUN Qingqing DING Shijin ZHANG Wei |
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| Affiliation: | (State Key Laboratory of ASIC and System,School of Microelectronics,Fudan University,Shanghai 200433) |
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| Abstract: | |
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