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温度对O_3及O_3/H_2O_2工艺去除痕量阿特拉津的影响
摘    要:研究了O3及O3/H2O2工艺在低温和常温条件下对实际水体中痕量阿特拉津的去除规律。结果表明:低温(5℃)条件下,O3分解相当缓慢,单独O3氧化工艺对阿特拉津的去除能力有限,而O3/H2O2工艺优势明显;常温(25℃)条件下,O3分解较快,单独O3氧化工艺就能有效降解阿特拉津,O3/H2O2工艺优势较弱。理论分析认为,O3完全分解条件下产生的羟基自由基的CT值与O3投量相关,而与H2O2投量无关。因此,H2O2投量应使O3在氧化接触时间内恰好完全分解为最佳,可以用剩余臭氧浓度作为指示参数来控制H2O2的投加。

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