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掺杂SnS薄膜的制备及电学性能
引用本文:郭余英,史伟民,魏光普,邱永华,夏义本.掺杂SnS薄膜的制备及电学性能[J].功能材料与器件学报,2007,13(6):651-654.
作者姓名:郭余英  史伟民  魏光普  邱永华  夏义本
作者单位:上海大学材料科学与工程学院电子信息材料系,上海,200072
基金项目:上海市科学技术委员会专项基金重点项目 , AM基金 , 上海市科委资助项目 , 上海市重点学科建设项目
摘    要:硫化锡(SnS)具有很高的光吸收系数和合适的禁带宽度,又无毒性,因此在太阳电池等光电器件中具有潜在应用价值。本文用真空蒸发法制备掺杂的SnS薄膜,掺杂源有Sb、Sb:O3、Se、Te、In、In2O3、Se和In2O3的混合物。对各种掺杂SnS薄膜的厚度、电流-电压(Ⅰ—Ⅴ)特性等进行了表征,并计算了其电阻率和光电导与暗电导的比值(Gphoto/Gdark)。结果表明较有效的掺杂源是Sb,Sb掺杂的薄膜电阻率比纯薄膜的电阻率降低四个数量级,Gphoto/Gdark增加约一倍。同时,研究了Sb掺杂量对SnS薄膜电学性能的影响,表明Sb的最佳掺入量约为1.3wt%~1.5wt%。

关 键 词:硫化锡  太阳电池  掺杂  真空蒸发  电阻率
文章编号:1007-4252(2007)06-0651-04
修稿时间:2006年10月25

Electrical properties of doped SnS thin films prepared by vacuum evaporation
GUO Yu-ying,SHI Wei-min,WEI Guang-pu,QIU Yong-hua,XIA Yi-ben.Electrical properties of doped SnS thin films prepared by vacuum evaporation[J].Journal of Functional Materials and Devices,2007,13(6):651-654.
Authors:GUO Yu-ying  SHI Wei-min  WEI Guang-pu  QIU Yong-hua  XIA Yi-ben
Abstract:
Keywords:
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