| Zr－4合金氧化膜（＜100nm）的电镜研究 |
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| 引用本文： | 李聪,周邦新. Zr－4合金氧化膜（＜100nm）的电镜研究[J]. 核动力工程, 1994, 0(2) |
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| 作者姓名： | 李聪 周邦新 |
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| 作者单位： | 中国核动力研究设计院，核燃料及材料实验室 |
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| 摘 要： | 应用透射电子显微镜（ＴＥＭ），分析了Ｚｒ－４合金在３５０℃空气中生成的氧化膜（＜１００ｎｍ）。氧化膜中ＺｒＯ２的晶体结构为非晶、立方（四方）和单斜，它们所占份额与基体晶粒的取向有关。第二相粒子与周围基体构成电偶腐蚀，加速基体氧化，因而第二相粒子周围的氧化膜较厚，第二相粒子自身氧化变慢，将残留在氧化膜中。第二相粒子的氧化产物为六方（Ｆｅ、Ｃｒ）２Ｏ３、立方（四方）ＺｒＯ２和单斜ＺｒＯ２。
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| 关 键 词： | Zr－4合金，第二相，氧化膜 |
Electron Microscopy Investigation of Oxide Films (<100 nm) Formed on Zircaloy-4 |
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| Li Cong, Zhou Bangxin. Electron Microscopy Investigation of Oxide Films (<100 nm) Formed on Zircaloy-4[J]. Nuclear Power Engineering, 1994, 0(2) |
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| Authors: | Li Cong Zhou Bangxin |
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| Keywords: | Zircaloy-4 Second Phase Oxide Film |
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