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| TbCo／Cr非晶垂直磁化膜的磁特性 | |
| 引用本文： | 黄致新,李佐宜,但旭,晋芳,林更琪.TbCo／Cr非晶垂直磁化膜的磁特性[J].稀有金属材料与工程,2004,33(11):1157-1160. |
| 作者姓名： | 黄致新 李佐宜 但旭 晋芳 林更琪 |
| 作者单位： | 1. 华中科技大学,湖北,武汉,430074;华中师范大学,湖北,武汉,430079 2. 华中科技大学,湖北,武汉,430074 3. 华中师范大学,湖北,武汉,430079 |
| 基金项目： | 教育部博士基金项目(20010487021) |
| 摘 要： | 在 SPF-430H 溅射系统上采用不加偏压的射频磁控溅射法制备了 TbCo 非晶垂直磁化膜, 并就 Cr 底层对 TbCo 非晶垂直磁化膜磁性能的影响进行了研究。结果表明,Cr 底层的存在能够增强 TbCo 非晶垂直磁化膜的磁各向异性,并使得其矫顽力增加。分别采用 VTBH-1 型高感度振动样品磁强计和 MTL-1 磁转矩系统测量了 TbCo薄膜的磁滞回线和磁转矩曲线。结果发现,厚度为 120 nm,并带有 180 nm 厚度 Cr 底层的 Tb31C69 薄膜的矫顽力和磁各向异性能分别高达 51.2×104 A/m 和 0.457 J/cm3;没有带 Cr 底层的同样厚度的 Tb31C69 薄膜的矫顽力和磁各向异性能分别只有 35.2×104 A/m 和 0.324 J/cm3。Hitachi X-650 型扫描电镜的观测结果表明,带有 Cr 底层的TbCo 薄膜具有柱状结构,这一柱状结构导致了磁各向异性能的增强以及矫顽力的提高。 |
| 关 键 词： | 磁性 TbCo／Cr薄膜 磁控溅射 |
| 文章编号： | 1002-185X(2004)11-1157-04 |
| 修稿时间： | 2003年3月31日 |
Preparation and Properties of TbCo/Cr Amorphous Films with Perpendicular Anisotropy |
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| Huang Zhixin,Li Zuoyi,Dan Xu,Jin Fang,Lin Gengqi.Preparation and Properties of TbCo/Cr Amorphous Films with Perpendicular Anisotropy[J].Rare Metal Materials and Engineering,2004,33(11):1157-1160. | |
| Authors: | Huang Zhixin Li Zuoyi Dan Xu Jin Fang Lin Gengqi |
| Abstract: | |
| Keywords: | magnetic properties TbCo/Cr films magnetron sputtering |
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