| 方波溶出伏安法测定镀镍液中的微量铜 |
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| 引用本文： | 陶建中,王爱荣,荆瑞俊,楚超霞.方波溶出伏安法测定镀镍液中的微量铜[J].材料保护,2004,37(12):59-61. |
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| 作者姓名： | 陶建中 王爱荣 荆瑞俊 楚超霞 |
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| 作者单位： | 河南科技学院化工系,河南,新乡,453003;河南科技学院化工系,河南,新乡,453003;河南科技学院化工系,河南,新乡,453003;河南科技学院化工系,河南,新乡,453003 |
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| 摘 要： | 为建立镀镍液中微量铜的测定方法,用方波溶出伏安法测定了镀镍液中的微量铜(Ⅱ).研究了最佳的测定条件,确立了测定方法.试验结果表明,在pH值为4.0～4.5的NH4Cl-Na2SO4底液中,Cu2 于-O.156 V(vsSCE)出现灵敏溶出峰,峰电流在铜(Ⅱ)浓度为5.0×10-7 ～1.0×10-5 mol/L时呈现良好的线性关系,回归方程Ip(μA)=1.06 1.08C(×10-6 mol/L),相关系数为0.999 4.方法的变异系数为2.7%,检出限为2.8×10-7 mol/L,回收率为94%～106%.该方法应用于现场镀镍液中微量Cu2 的测定,效果较好.
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| 关 键 词： | 方波溶出伏安法 镀镍液 铜 测定 |
| 文章编号： | 1001-1560(2004)12-0059-03 |
Determination of Minim Copper in Nickel Plating Bath by Square Wave Stripping Voltammetry |
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| TAO Jian- zhong,WANG Ai- rong,JING Rui-jun,CHU Chao- xiao.Determination of Minim Copper in Nickel Plating Bath by Square Wave Stripping Voltammetry[J].Journal of Materials Protection,2004,37(12):59-61. |
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| Authors: | TAO Jian- zhong WANG Ai- rong JING Rui-jun CHU Chao- xiao |
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| Keywords: | square wave stripping voltammetry plating nickel bath copper determination |
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