真空蒸发沉积VOPc薄膜及磁场对薄膜结构与性能的影响

用真空蒸发制备了酞菁氧钒(VOPc)薄膜，并在磁场中进行了热处理。用X光电子能谱、X射线衍射、紫外-可见吸收光谱、原子力显微镜等手段对制备的薄膜进行了表征。结果 表明沉积的酞菁氧钒薄膜为a-型，成分接近酞菁氧钒的分子式。制备的薄膜在磁场中进行了热处理，发现磁场使酞菁氧钒薄膜性质发生改变：UV-VIS吸收谱Q带发生红移；XRD谱图衍射峰强度明显增强，峰位略有变化；原子力显微镜(AFM)分析发现晶粒大小无明显变化。以上结果说明磁场的存在使得VOPc分子在热处理过程中发生了定向的排列。