| 双面光刻机运动控制系统设计分析 |
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| 引用本文： | 刘玄博. 双面光刻机运动控制系统设计分析[J]. 电子工业专用设备, 2015, 0(4): 30-35 |
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| 作者姓名： | 刘玄博 |
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| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,100176 |
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| 摘 要： | 针对双面光刻机运动控制需求，提出模块化的设计方案，重点分析了对准工作台PID 调节方法，实现了高动态响应、高精度运动控制。
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| 关 键 词： | 双面光刻机 运动控制 PID 控制 |
System design and motion analysis of the double-sided Maskaligner control |
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| LIU Xuanbo. System design and motion analysis of the double-sided Maskaligner control[J]. Equipment for Electronic Products Marufacturing, 2015, 0(4): 30-35 |
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| Authors: | LIU Xuanbo |
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| Affiliation: | LIU Xuanbo;The 45th Research Institute of CETC; |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Double-sided maskaligner Motion control PID control |
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