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电沉积非晶态Ni-P合金工艺的优化
引用本文:刘应科,程英亮,张昭,陈振华. 电沉积非晶态Ni-P合金工艺的优化[J]. 材料保护, 2006, 39(6): 30-34
作者姓名:刘应科  程英亮  张昭  陈振华
作者单位:浙江省标准件检测中心,浙江,海盐,314300;湖南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410082;湖南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410082;浙江大学化学系,浙江,杭州,310027
摘    要:为了在亚磷酸-镍盐体系中获得工艺稳定、耐蚀性好、硬度高的非晶态Ni-P镀层,进行了7因素(温度、电流密度、pH值、硫酸镍浓度、氯化镍浓度、亚磷酸浓度、磷酸浓度)3水平正交试验.优选出制备最佳耐蚀性镀层的工艺条件为:10g/L亚磷酸,180g/L硫酸镍,50g/L氯化镍,45mL/L磷酸,pH值1.8,温度65℃,电流密度6 A/dm2;获得最佳镀层硬度的工艺条件为:40g/L氯化镍,10g/L亚磷酸,180g/L硫酸镍,45 mL/L磷酸,pH值2.2,温度65℃,电流密度6 A/dm2.分析了各因素对镀层耐蚀性和硬度的影响,结果表明,pH值和温度对镀层耐蚀性影响较大,而氯化镍和亚磷酸浓度对镀层硬度影响较大.

关 键 词:复合电沉积  非晶态镍磷合金  正交试验  工艺  优化
文章编号:1001-1560(2006)06-0030-05
收稿时间:2005-02-22
修稿时间:2005-02-22

Optimization of the Electroplating Process for Amorphous Nickel- Phosphorus Alloy
LIU Ying-ke,CHENG Ying-liang,ZHANG Zhao,CHEN Zhen-hua. Optimization of the Electroplating Process for Amorphous Nickel- Phosphorus Alloy[J]. Journal of Materials Protection, 2006, 39(6): 30-34
Authors:LIU Ying-ke  CHENG Ying-liang  ZHANG Zhao  CHEN Zhen-hua
Abstract:
Keywords:composite electroplating  amorphous nickel-phosphorus alloy  orthogonal test  process  optimization
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