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GaAs集成电路辐照效应试验研究
引用本文:王文君,田国平.GaAs集成电路辐照效应试验研究[J].半导体技术,2010,35(8):803-805.
作者姓名:王文君  田国平
作者单位:中国电子科技集团公司,第十三研究所,石家庄,050051;中国电子科技集团公司,第十三研究所,石家庄,050051
摘    要:GaAs集成电路因其良好的电性能和抗辐射能力,广泛应用于各领域,尤其是航天航空方面.电路的抗辐射能力与设计和工艺密切相关,因此对3 bit GaAs加权相加电路进行了全面的辐照效应试验技术研究,主要对该电路进行中子、γ总剂量和γ剂量率辐照试验研究,对GaAs集成电路的耐辐照性进行了探讨,为建立中等规模耐辐射GaAs IC的电路设计、工艺制造和测试技术平台奠定了基础.

关 键 词:砷化镓  集成电路  抗辐射  辐射效应  试验

Research of GaAs IC Radiation Effect
Wang Wenjun,Tian Guoping.Research of GaAs IC Radiation Effect[J].Semiconductor Technology,2010,35(8):803-805.
Authors:Wang Wenjun  Tian Guoping
Affiliation:Wang Wenjun,Tian Guoping(The 13th Research Institute,CETC,Shijiazhuang 050051,China)
Abstract:
Keywords:GaAs  integrated circuit  anti-radiation  radiation effect  experimentation  
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