| 磁控溅射工艺参数对涤纶机织物基纳米金属薄膜抗静电性能的影响 |
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| 引用本文： | 袁小红,魏取福,陈东生,徐文正.磁控溅射工艺参数对涤纶机织物基纳米金属薄膜抗静电性能的影响[J].材料科学与工程学报,2014(6):848-852. |
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| 作者姓名： | 袁小红 魏取福 陈东生 徐文正 |
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| 作者单位： | 江南大学生态纺织教育部重点实验室;闽江学院服装与艺术工程学院; |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2012AA030313);福建省教育厅科技计划资助项目(JA13260) |
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| 摘 要： | 在室温条件下采用磁控溅射技术在涤纶机织物表面沉积金属薄膜,利用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察纳米金属薄膜的表面形貌,通过分别改变磁控溅射工艺参数溅射时间、溅射功率和气体压强,研究其对试样抗静电性能的影响。实验结果表明,溅射时间和溅射功率对镀金属薄膜试样的抗静电性能均影响较大,而气体压强影响相对较小。溅射时间40min、溅射功率120W、气体压强1.6Pa工艺条件下,镀Cu膜试样的抗静电性能最好;溅射时间40min、溅射功率120W、气体压强1Pa或1.6Pa工艺条件下,镀Ag膜试样的抗静电性能最好,而且镀Ag比镀Cu薄膜试样的抗静电性能更优异。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 涤纶机织物 纳米金属薄膜 抗静电性能 |
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