| 银/铜双原子MACE法制备单晶黑硅 |
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| 引用本文： | 黄燕华,张子启,陈松岩,张小英.银/铜双原子MACE法制备单晶黑硅[J].光电子．激光,2020,31(9):987-993. |
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| 作者姓名： | 黄燕华 张子启 陈松岩 张小英 |
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| 作者单位： | 集美大学 诚毅学院,福建 厦门 361021,厦门大学 物理系 半导体光电材料及其高效转 换器件协同创新中心,福建 厦门 361005,厦门大学 物理系 半导体光电材料及其高效转 换器件协同创新中心,福建 厦门 361005,厦门理工学院 光电与通信工程学院,福建省 光电技术与器件重点实验室,福建 厦门 361024 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(61534005)、福建省中青年教师教育科研项目(JAT191150)、江西省自然科学基金(20192ACBL20048) 和福建省教育厅科技计划(JT180432)资助项目 (1集美大学 诚毅学院,福建 厦门 361021； 2.厦门大学 物理系半导体光电材料及其高效转换器件协同创新中心,福建 厦门 361005； 3.厦门理工学院 光电与通信工程学院,福建省光电技术与器件重点实验室,福建 厦门 361024) |
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| 摘 要： | 本文采用两步Ag/Cu双原子金属辅助化学腐蚀(M ACE)法,在25℃和50℃单晶硅表面制备纳米陷 光结构。实验探讨了刻蚀时间和Ag/Cu原子的摩尔比对制备的黑硅表面结构形貌和反射率的 影响,实验得 到Ag/Cu双原子MACE法制备的的黑硅比Ag单原子和Cu单原子MACE法制备的黑硅具有更好的表 面抗反 射。这是由于Ag/Cu双原子的协同催化腐蚀,使得黑硅表面具有较为均匀分布的横向和竖向 共存的复合孔 洞结构。研究结果表明,纵横交错的复合孔洞结构具有良好的陷光效果,当Ag/Cu原子摩尔 比为1∶5,腐蚀 时间为10 min时,黑硅表面的反射率达到最低,为4%以下。而对于重 掺硅衬底,Ag/C u双原子辅助腐蚀得到的黑硅表面孔洞为均匀规整的倒金字塔结构,其反射率达到2%以下。
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| 关 键 词： | 金属辅助化学腐蚀 银铜催化 黑硅 纳米结构 表面减反 |
| 收稿时间： | 2020/7/8 0:00:00 |
Preparation of monocrystalline black silicon by Ag and Cu dually assisted chemic al etching |
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| HUANG Yan-hu,ZHANG Zi-qi,CHEN Song-yan and ZHAN G Xiao-ying.Preparation of monocrystalline black silicon by Ag and Cu dually assisted chemic al etching[J].Journal of Optoelectronics·laser,2020,31(9):987-993. |
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| Authors: | HUANG Yan-hu ZHANG Zi-qi CHEN Song-yan and ZHAN G Xiao-ying |
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| Affiliation: | Chengyi University College,Jimei University,Xiamen 361021,China,Fujian Provincial Key Laboratory of Semiconductors and Applications,Collaborat ive Innovation, Center for Optoelectronic Semiconductors and Efficient Devices,Department of Ph ysics,Xiamen University,Xiamen 361005,China,Fujian Provincial Key Laboratory of Semiconductors and Applications,Collaborat ive Innovation, Center for Optoelectronic Semiconductors and Efficient Devices,Department of Ph ysics,Xiamen University,Xiamen 361005,China and School of Opto-electronic and Co mmunication Engineering,Fujian Provincial Key Laboratory of Optoelectronic Technology and Devices,Xiamen University of Technology,Xiamen 361024,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | metal-assisted chemical etching Ag and Cu dual catalysis black silicon nano -structure surface anti-reflection |
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