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| DSW6000B型缩小投影光刻机 | |
| 引用本文： | 小寺,嘉蔵,喻德政.DSW6000B型缩小投影光刻机[J].电子工业专用设备,1985(2). |
| 作者姓名： | 小寺 嘉蔵 喻德政 |
| 摘 要： | <正> 半导体器件的真正高集成化始于刚称得上超LSI的64KDRAM,让我们沿着记忆的层次,回顾一下其发展过程吧!MOS存储器正从64KDRAM向256KDRAM乃至1MDRAM方向迅速靠拢。伴随着器件日益高集成化,光刻技术也取得了很大的发展。其中,分步投影光 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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