PVD衬垫扩展到45nm互连

来自IBM、Infmeon和AMD的工程师们的最新研究结果证实，在45nm节点，非常薄的PVD阻挡层仍然展现出良好的可靠陛，特别是当衬垫（1iner）工艺被合理地加以应用时。Infineon的工程师Armin Fischer及其同事们在近期于Phoenix举行的国际可靠性物理研讨会（IRPS）上报告了他们的发现。