| 高分子基质和光学-氧压敏感涂料性能的关系 |
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| 引用本文： | 王志栋,金毕青,李亚庆,杨鹏,史邁,刘治田,陈柳生.高分子基质和光学-氧压敏感涂料性能的关系[J].武汉工程大学学报,2015(3):42-48. |
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| 作者姓名： | 王志栋 金毕青 李亚庆 杨鹏 史邁 刘治田 陈柳生 |
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| 作者单位： | 武汉工程大学材料科学与工程学院;中国科学院化学研究所 |
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| 摘 要： | 基于氧对荧光的淬灭作用,由荧光探针和高分子基质组成的氧压敏感涂料(PSP),是用于风洞测量空气动力学模型表面空气压力分布的新型压力传感器.研究荧光探针和高分子基质对PSP压力灵敏度的影响,可以为提高压力传感器的测量精度提供向导.实验将聚甲基苯基硅氧烷、三氟氯乙烯-醋酸乙烯酯、聚二甲基硅氧烷和聚甲基氟丙基硅氧烷分别与芘丁酸(PYB)和N,N,N’,N’-四甲苯基联苯胺(TBD)两种荧光探针共混,观察其荧光发射的氧猝灭作用.结果表明,PYB在上述聚合物中的氧猝灭灵敏度和响应时间随聚合物的透氧性而变化,属于扩散控制机理;在氮-氧转换时荧光猝灭时间响应也与聚合物的氧透过率一致;而TBD与4种聚合物的相互作用导致荧光发射光谱不同程度的位移,即TBD/聚合物体系的氧猝灭灵敏度与探针-聚合物的相互作用相关,而聚合物的氧透过率影响不明显.
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| 关 键 词： | 压力敏感涂料 荧光探针 高分子基质 扩散控制机理 响应时间 |
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