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| 扫描探针刻蚀技术的机理分析及进展 | |
| 引用本文： | 蒋洪奎,范真,姚汤伟,钟俊坚,朱春耕.扫描探针刻蚀技术的机理分析及进展[J].新技术新工艺,2006(1):86-88. |
| 作者姓名： | 蒋洪奎 范真 姚汤伟 钟俊坚 朱春耕 |
| 作者单位： | 1. 江苏大学机械学院微纳米技术研究中心,212013;浙江师范大学,321019 2. 江苏大学机械学院微纳米技术研究中心,212013 3. 浙江师范大学,321019 |
| 摘 要： | 文章综述了扫描探针刻蚀技术的最新研究进展，并介绍了扫描探针刻蚀加工机理。 |
| 关 键 词： | 扫描探针 刻蚀加工 机理 进展 |
The Current Development and Mechanisms of Scanning Probe Lithograph |
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| Jiang HongKui;Fan Zhe;Yao ShangWei;Zhong JunJian;Zhu ChunGeng.The Current Development and Mechanisms of Scanning Probe Lithograph[J].New Technology & New Process,2006(1):86-88. | |
| Authors: | Jiang HongKui;Fan Zhe;Yao ShangWei;Zhong JunJian;Zhu ChunGeng |
| Abstract: | This paper summarized the current development of scanning probe lithography and introduced the mechanisms of forming nanometer structure. |
| Keywords: | scanning probe lithography mechanism development |
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