| 等离子体气相沉积硬质膜工艺技术进展 |
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| 引用本文： | 马胜利,徐可为.等离子体气相沉积硬质膜工艺技术进展[J].兵器材料科学与工程,2000,23(3):63-70. |
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| 作者姓名： | 马胜利 徐可为 |
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| 作者单位： | 西安交通大学 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划);7150080060; |
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| 摘 要： | 等离子体化学气相沉积 (PCVD)硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点。介绍了近年来 PCVD硬质膜工艺技术及薄膜性能评价方面的研究现状、存在问题及发展趋势
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| 关 键 词： | PCVD硬质膜 工艺 结合强度 研究进展 |
| 文章编号： | 1004-244X(2000)03-0063-08 |
| 修稿时间： | 1999年3月15日 |
DEVELOPMENT IN PROCESS OF PLASMA VAPOUR DEPOSITION COATINGS |
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| Ma Shengli,Xu Kewei.DEVELOPMENT IN PROCESS OF PLASMA VAPOUR DEPOSITION COATINGS[J].Ordnance Material Science and Engineering,2000,23(3):63-70. |
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| Authors: | Ma Shengli Xu Kewei |
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| Abstract: | It is an interesting field in recent years to strengthen the substrate surface with the thin hard coatings produced by plasma chemical vapour deposition (PCVD).The present situation,existing problems and developmental trend of the PCVD thin hard coatings processing and coating properties evaluation are presented in this paper. |
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| Keywords: | PCVD thin hard coating processing bonding strength new development |
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