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微颗粒表面磁控溅射镀金属膜
引用本文:俞晓正,徐政,沈志刚.微颗粒表面磁控溅射镀金属膜[J].过程工程学报,2006,6(Z2):173-178.
作者姓名:俞晓正  徐政  沈志刚
作者单位:1. 北京航空航天大学粉体技术北京市重点实验室,北京,100083;国家纳米技术产业化基地,天津,300457
2. 北京有色金属研究总院,北京,100088
基金项目:航空基础科学基金 , 北京市教委共建项目
摘    要:采用磁控溅射方法,开展了在微颗粒表面镀金属膜的实验研究.研究开发了一种在微颗粒表面真空镀金属膜的方法及设备,微颗粒包括空心微珠、不同粒度的碳化硅微粉等,所镀的金属包括铝、银、铜、钴、镍等.实验与分析结果表明,通过控制微颗粒的运动方式,采用磁控溅射镀金属膜,可以在微颗粒表面镀上均匀性好、附着力强和致密性好的金属膜.

关 键 词:微颗粒  磁控溅射  金属膜  表面形貌
文章编号:1009-606X(2006)S2-0173-06
修稿时间:2006年8月17日

Preparation and Characterization of Metal-coated Micro-particles by Magnetron Sputtering
YU Xiao-zheng,XU Zheng,SHEN Zhi-gang.Preparation and Characterization of Metal-coated Micro-particles by Magnetron Sputtering[J].Chinese Journal of Process Engineering,2006,6(Z2):173-178.
Authors:YU Xiao-zheng  XU Zheng  SHEN Zhi-gang
Abstract:
Keywords:
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