| 低红外发射率半导体颜料的制备方法与应用现状 |
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| 引用本文： | 孙国亮.低红外发射率半导体颜料的制备方法与应用现状[J].电镀与涂饰,2010,29(9):65-67. |
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| 作者姓名： | 孙国亮 |
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| 作者单位： | 中国卫星海上测控部,江苏,江阴,214431 |
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| 摘 要： | 论述了低红外发射率半导体颜料研究的必要性,介绍了低发射率半导体颜料的特性、研究进展与制备方法.建议低发射率半导体颜料的研究按以下方面进行:深入研究半导体的掺杂理论,探索半导体颜料掺杂含量对涂料红外性能的影响,不同半导体颜料的制备方法和工艺条件的选择研究,以及不同颜色体系的半导体颜料的合成等.
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| 关 键 词： | 伪装涂料 半导体颜料 低红外发射率 掺杂 |
Preparation methods and applicatioil status of semiconductor pigment with low infrared emissiVity |
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| SUN Guo-liang.Preparation methods and applicatioil status of semiconductor pigment with low infrared emissiVity[J].Electroplating & Finishing,2010,29(9):65-67. |
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| Authors: | SUN Guo-liang |
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