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低压等离子喷涂 TaSi2/MoSi2 涂层组织结构及性能研究
引用本文:倪立勇,杨震晓,马康智,文波,曲栋,杨杰.低压等离子喷涂 TaSi2/MoSi2 涂层组织结构及性能研究[J].热喷涂技术,2020,12(3):70-75.
作者姓名:倪立勇  杨震晓  马康智  文波  曲栋  杨杰
作者单位:航天材料及工艺研究所,北京100076;航天材料及工艺研究所,北京100076;航天材料及工艺研究所,北京100076;航天材料及工艺研究所,北京100076;航天材料及工艺研究所,北京100076;航天材料及工艺研究所,北京100076
摘    要:采用低压等离子喷涂技术制备了 TaSi2/MoSi2 涂层。 通过 XRD、 SEM 、 EDS 等手段分析了涂层氧化前后 组织结构及相结构。 结果表明, TaSi2/MoSi2 涂层呈现典型的层状结构, 组织结构均匀致密 , 孔隙率为 3.1%; 涂 层由 TaSi2 和 MoSi2 两相组成, 喷涂过程中未发生相结构转变; 空气中 1650℃氧化 30min 后, 涂层表面生成致密 和玻璃态 SiO2 保护膜, 涂层具有良好的自愈合能力 , 表现出良好的高温抗氧化性能。

关 键 词:TaSi2/MoSi2涂层  低压等离子喷涂  高温抗氧化涂层

Microstructure and Properties of TaSi2/MoSi2 Coating Fabricated by Low Pressure Plasma Spray
Liyong Ni,Zhenxiao Yang,Kangzhi M,Bo Wen,Dong Qu,Jie Yang.Microstructure and Properties of TaSi2/MoSi2 Coating Fabricated by Low Pressure Plasma Spray[J].Thermal Spray Technology,2020,12(3):70-75.
Authors:Liyong Ni  Zhenxiao Yang  Kangzhi M  Bo Wen  Dong Qu  Jie Yang
Affiliation:Aerospace Research Institute of Materials and Processing Technology
Abstract:
Keywords:TaSi2/MoSi2 coating  Low pressure plasma spray  High temperature oxidation resistance
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