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基于SIMOX的耐高温压力传感器芯片制作
引用本文:王权,丁建宁,王文襄,熊斌. 基于SIMOX的耐高温压力传感器芯片制作[J]. 半导体学报, 2005, 26(8): 1595-1598
作者姓名:王权  丁建宁  王文襄  熊斌
作者单位:江苏大学微纳米科学技术研究中心 镇江212013(王权,丁建宁),昆山双桥传感器测试技术有限公司 苏州215325(王文襄),中国科学院上海微系统与信息技术研究所 上海200050(熊斌)
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划) , 国家传感器技术科技攻关项目
摘    要:针对石油化工等领域中高温下较高压力测量的要求,设计了压阻式压力传感器敏感芯片,采用SIMOX技术的SOI晶片,在微加工平台上通过低压化学气相淀积法(LPCVD)均相外延硅测量层、浓硼离子注入、热氧化、光刻、电感耦合等离子体(ICP)深刻蚀、多层合金化等工艺流程制作了该芯片,将其封装后,研制出了高精度稳定性佳的耐高温压阻式压力传感器.封装工艺进一步改善后,该芯片工作温区有望拓宽到300~350℃.

关 键 词:高温压力传感器  SIMOX  低压化学气相淀积  电感耦合等离子体深刻蚀
文章编号:0253-4177(2005)08-1595-04
收稿时间:2004-10-30
修稿时间:2005-01-26

Fabrication of a Pressure Sensor Gauge Chip Based on SIMOX
Wang Quan,Ding Jianning,Wang Wenxiang,Xiong Bin. Fabrication of a Pressure Sensor Gauge Chip Based on SIMOX[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2005, 26(8): 1595-1598
Authors:Wang Quan  Ding Jianning  Wang Wenxiang  Xiong Bin
Abstract:
Keywords:high temperature pressure sensor  SIMOX  LPCVD  ICP
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