激光选区熔化成形TC4的电解质等离子抛光工艺与性能

利用PEP200电解质等离子抛光(PEP)设备研究了工艺参数对激光选区熔化成形TC4表面处理效果的影响。设计溶液温度、抛光电压和浸入深度对表面质量及抛光效率影响的实验，并通过对复杂零件PEP验证最佳工艺参数选择的合理性，设置电解液浓度为4%(质量分数)，抛光时间为15 min。通过粗糙度仪、光学显微镜(OM)、共聚焦显微镜和扫描电子显微镜(SEM)等对样件表面粗糙度(R_a)、表面形貌、三维轮廓及元素成分进行测试。结果表明，使用PEP降低激光选区熔化成形TC4零件表面粗糙度的最佳工艺参数为：抛光电压为280 V，溶液温度为90℃，浸入深度为40 mm；材料去除率的最佳工艺参数为：抛光电压为280 V，溶液温度为80℃，浸入深度为20 mm。R_a最低可降至1.906μm，材料去除率最高可达5.98μm·min^-1。复杂TC4零件整体光泽度实测可达253 GU,R_a从9.534μm下降到1.987μm，下降率达79.16%。SEM图像显示，PEP处理后TC4零件表面由喷砂冲击所造成的大量撕裂纹完全去除。三...