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| 双光路膜厚控制仪 | |
| 作者单位： | 北京仪器厂，北京工业学院，北京第二光学仪器厂 |
| 摘 要： | 一、绪言随着祖国光学工业和电子工业的迅速发展,对多层膜的镀制和控制,提出了更高的要求。为了能够精确、方便地控制多层膜的沉积厚度,填补真空镀膜沉积控制上的一项空白,1971年北京仪器厂在北京工业学院协助下,试制成功了 MKG—1型双光路膜厚控制仪。用光电方法控制膜层厚度,目前有下列三种主要方法: |
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