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| KLA-221掩模缺陷自动检查系统 | |
| 作者姓名： | 屈立飞 |
| 作者单位： | 中国华晶电子集团公司中央研究所 |
| 摘 要： | KLA-221系统用于掩模版缺陷的自动检查。本文着重对该机的工作原理、光学系统及自动调焦系统作了介绍。 |
| 关 键 词： | KLA－221 掩膜 集成电路 缺陷 自动检查系统 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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