| 氧化热处理对VO2薄膜红外光学相变特性的影响 |
| |
| 引用本文： | 徐凯,路远,凌永顺,乔亚,唐聪.氧化热处理对VO2薄膜红外光学相变特性的影响[J].激光与红外,2015,45(1):53-57. |
| |
| 作者姓名： | 徐凯 路远 凌永顺 乔亚 唐聪 |
| |
| 作者单位： | 电子工程学院，安徽 合肥 230037; 红外与低温等离子体安徽省重点实验室，安徽 合肥 230037 |
| |
| 基金项目： | 脉冲功率激光技术国家重点实验室主任基金项目（No.SKL2013ZR03）资助 |
| |
| 摘 要： | 采用直流磁控溅射法在硅基底上制备VO2薄膜,并对薄膜氧化热处理。分别对热处理前后薄膜进行X射线衍射(XRD)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)透射率测试,分析了热处理对VO2薄膜晶相成分与红外透射率相变特性的影响。实验分析表明,经热处理的VO2发生非晶态向晶态转变,单斜金红石结构VO2(011)晶体具有明显择优取向,晶粒尺寸均匀度提高,且薄膜的红外透射率具有明显相变特性,相变温度为60.5℃,3~5μm、8~12μm波段的红外透射率对比值达到99%,适合应用于红外探测器的激光防护研究。
|
| 关 键 词： | 二氧化钒 直流磁控溅射 氧化热处理 红外特性 |
Effects of oxidational annealing on infrared optical phase transition properties of VO2 thin films |
| |
| XU Kai,LU Yuan,LING Yong shun,QIAO Y,TANG Cong.Effects of oxidational annealing on infrared optical phase transition properties of VO2 thin films[J].Laser & Infrared,2015,45(1):53-57. |
| |
| Authors: | XU Kai LU Yuan LING Yong shun QIAO Y TANG Cong |
| |
| Affiliation: | Electronic Engineering Institute,Hefei 230037,China;Infrared and Low Temperature Plasma Key Laboratory of Anhui Province,Hefei 230037,China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | vanadium oxide DC magnetron sputtering oxidational annealing infrared optical properties |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《激光与红外》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《激光与红外》下载全文 |
|
