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| 英特尔公司称EUV光刻技术的发展赶不上其工艺进展的步伐 | |
| 作者姓名： | 沈熙磊 |
| 摘 要： | 在最近召开的SPIE高级光刻技术会议上,Intel公司称EUV光刻技术应用到大批量生产的时间点将会迟于Intel推出14 nm制程产品的时间点,而且按现在的发展趋势来看,很可能连Intel的10 nm制程都会赶不上!不过对其它芯片代工厂以及内存芯片制造商而言,仍有可能赶在他们推出16/14 nm制程产品时 |
| 关 键 词： | 工艺进展 光刻技术 制程 英特尔 光刻机 设计准则 |
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