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| 红宝石、Nd:YAG 激光工作物质氧化物增透膜的设计和制备 | |
| 作者姓名： | 张仁昌 杨素平 |
| 作者单位： | 电子部11所，电子部11所 |
| 摘 要： | 本文主要介绍红宝石、Nd:YAG激光工作物质端面两层和三层λ/4膜厚氧化物增透膜的设计和制备工艺,膜系的低反射区宽,制备工艺简单,其剩余反射率小于0.1％。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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