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真空热蒸发酞菁铜(CuPc)薄膜的结构及光学、电学性能研究
引用本文:何智兵,韩高荣,吴卫东,唐永建. 真空热蒸发酞菁铜(CuPc)薄膜的结构及光学、电学性能研究[J]. 真空科学与技术学报, 2005, 25(4): 278-282
作者姓名:何智兵  韩高荣  吴卫东  唐永建
作者单位:1. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
2. 浙江大学材化学院无机研究所,杭州,310027
基金项目:教育部跨世纪优秀人才培养计划
摘    要:为研究衬底温度对酞菁铜(CuPc)薄膜的结构、光学及光电导性能的影响,文中采用真空热蒸发方法制备了不同衬底温度的CuPc薄膜.X射线衍射和Raman光谱分析显示CuPc薄膜呈现很好的定向生长特性,随衬底温度的升高,CuPc薄膜的结晶性变好,其中α-CuPc的相对含量逐渐增加,而β-CuPc相应减少;场发射扫描电镜观察了不同衬底温度下薄膜的表面形貌和晶粒分布情况;用紫外可见光谱表征了CuPc薄膜的光学性能;CuPc薄膜的光敏性随衬底温度的升高表现出先增大后减小的变化规律.

关 键 词:酞菁铜(CuPc)  薄膜  结构  性能  真空蒸发
文章编号:1672-7126(2005)04-0278-05
收稿时间:2004-11-28
修稿时间:2004-11-28

Microstructures and Optical Properties of Copper-Phthalocyanine Film Grown by Vacuum Sublimation
He Zhibing,Han Gaorong,Wu Weidong,Tang Yongjian. Microstructures and Optical Properties of Copper-Phthalocyanine Film Grown by Vacuum Sublimation[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2005, 25(4): 278-282
Authors:He Zhibing  Han Gaorong  Wu Weidong  Tang Yongjian
Abstract:
Keywords:CuPc   Film   Structure   Property   Vacuum sublimation
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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