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| 片式多层陶瓷电容器生产用薄膜流延设备的研究与开发 | |
| 引用本文： | 陈裕锦,汤立云,梁昇平.片式多层陶瓷电容器生产用薄膜流延设备的研究与开发[J].电子工业专用设备,2012,41(1):50-55. |
| 作者姓名： | 陈裕锦 汤立云 梁昇平 |
| 作者单位： | 广东风华高科新宝华电子设备分公司,广东肇庆,526060 |
| 摘 要： | 随着片式多层陶瓷电容器(Multilayer Ceramic Capacitor,MLCC)向着微型化、高容量方向的发展,片式多层陶瓷电容器的生产工艺,对设备提出了更高的要求。对目前MLCC生产工艺的主要特点进行了研究,简单阐述了常见的片式多层陶瓷电容器薄膜流延技术,提出了一种实用型的唇式流延技术。同时,对薄膜流延设备的工作原理、总体构成、系统控制,以及关键技术进行了分析和探讨。 |
| 关 键 词： | 多层陶瓷电容器(MLCC) 唇式流延 薄膜流延设备 |
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