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高能离子注入的应用

作者姓名：	Charles Mckenna 成福康

作者单位：	瓦里安公司

摘要：	对于目前和今后的某些器件制造工艺来说,高能(MeV)离子注入都显示出常规工艺所没有的优越性。
本文献已被 CNKI 等数据库收录！