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MOCVD生长碳掺杂GaAs/AlGaAs大功率半导体激光器
引用本文:廉鹏 邹德恕. MOCVD生长碳掺杂GaAs/AlGaAs大功率半导体激光器[J]. 光电子.激光, 2000, 11(1): 4-6
作者姓名:廉鹏 邹德恕
作者单位:1. 北京工业大学电子工程学系和北京光电子技术实验室,北京,100022
2. 中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程研究中心,北京,100083
基金项目:国家“八六三”计划资助项目,国家自然科学基金资助项目 !( 698860 1),北京市自然科学基金资助项目 ( 4 982 0 0 7)
摘    要:利用低压金属有机金属化合物气相沉积方法,以液态CCl,为掺杂源生长了高质量C掺杂GaAs/AlGaAs材料,并对生长机理、材料特性以及C掺杂对大功率半导体激光器的影响进行了分析。在材料研究的基础上生长了以C为P型掺杂剂的GaAs/AlGaAs/InGaAs应变量子阱半导体激光器结构,置备了高性能980nm大功率半导体激光器。

关 键 词:掺碳 砷化镓 MoCVD 半导体激光器 气相外延
修稿时间:1999-10-05

MOCVD Growth of Carbon Doped GaAs/AlGaAs High Power Semiconductor Lasers
LIAN Peng,ZOU De-shu,GAO Guo,YIN Tao,CHEN Chang-hua,XU Zun-tu,SHEN Guang-di,MA Xiao-yu,CHEN Liang-hui. MOCVD Growth of Carbon Doped GaAs/AlGaAs High Power Semiconductor Lasers[J]. Journal of Optoelectronics·laser, 2000, 11(1): 4-6
Authors:LIAN Peng  ZOU De-shu  GAO Guo  YIN Tao  CHEN Chang-hua  XU Zun-tu  SHEN Guang-di  MA Xiao-yu  CHEN Liang-hui
Abstract:
Keywords:
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