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高水平抗辐射CMOS/SOS集成电路
引用本文:刘忠立,和致经,茅冬生. 高水平抗辐射CMOS/SOS集成电路[J]. 微电子学, 1988, 0(6)
作者姓名:刘忠立  和致经  茅冬生
作者单位:中国科学院半导体研究所(刘忠立,和致经),中国科学院半导体研究所(茅冬生)
摘    要:本工作采用先进的全离子注入低温工艺,研制成八个高水平4000系列小规模CMOS/SOS集成电路品种,它们是SC_(4001)、SC_(4002)、SC_(4011)、SC_(4012)、SC_(4013)、SC_(4030)、SC_(4066)及SC_(4069)。这些电路除了电学参数满足相应体硅CMOS电路以外,还具有优良的抗辐照特性,其抗γ总剂量达1×10~7rad(Si),抗γ瞬态剂量率达5×10~(10)rad(Si)/s以上。 本文简要介绍CMOS/SOS器件抗γ总剂量辐照及抗γ瞬态辐照的基本考虑以及辐照实验的结果。

关 键 词:CMOS/SOS电路  总剂量辐射  瞬态辐射  辐射加固

High Performance Radiation Hardened CMOS/SOS Integrated Circuits
Liu Zhongli,He Zhiling and Mao Dongsheng. High Performance Radiation Hardened CMOS/SOS Integrated Circuits[J]. Microelectronics, 1988, 0(6)
Authors:Liu Zhongli  He Zhiling  Mao Dongsheng
Abstract:
Keywords:CMOS/SOS circuit   Total dose radiation   Transient dose rate radiation   Radiation hardness  
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